- Capacitively Coupled Plasma
최찬혁
CHOI CHAN HYUK
- 2D Materials
한혜원
HAN HYE WON
- Isotropic Plasma Etching
박우창
PARK WOO CHANG
- SEMES
김상석
KIM SANG SEOK
- 원익IPS
승주원
SEUNG JU WON
- 삼성전자 (SSIT), 메모리사업부
김은구
KIM EUN KOO
- 삼성전자 (SSIT), 메모리사업부
호수민
HO SU MIN
- 삼성전자 (SSIT), Foundry 사업부
박길상
PARK GIL SANG
- 삼성전자 (SSIT), Foundry 사업부
김경림
KIM KYUNG LIM
- Inductively Coupled Plasma
김찬호
KIM CHAN HO
- Pulsed Plasma Etching
김민철
KIM MIN CHEOL
- Capacitively Coupled Plasma
이준수
LEE JUN SOO
- Inductively Coupled Plasma
정준원
JEONG JUN WON
- Capacitively Coupled Plasma
사또 아키히데
SATO AKIHIDE
- Atomic Layer Etching
하대연
HA DAE YEON
- 삼성전자 (SSIT), 반도체연구소
김성택
KIM SUNG TAEK
- 2D Materials
김시연
KIM SI YEON
- Inductively Coupled Plasma
김성현
KIM SUNG HYUN
- Isotropic Plasma Etching
양수정
YANG SU JEONG
- VHF Atomic Layer Deposition
오가희
OH GA HEE
- Inductively Coupled Plasma
전영우
JEON YOUNG WOO
- Isotropic Plasma Etching
윤은석
YOON EUN SEOK
